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產品介紹
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產品介紹
鈮靶材是一種用于物理研究和半導體制造等領域的重要材料。
產品特點
高熔點：鈮具有較高的熔點，約為2477°C，因此鈮靶材具有出色的耐高溫性能。
良好的化學穩(wěn)定性：鈮具有良好的化學穩(wěn)定性，在常溫下不易與其他元素發(fā)生反應，因此鈮靶材在使用過程中不易氧化或腐蝕。
高密度：鈮具有較高的密度，約為8.57克/立方厘米，因此鈮靶材具有較高的質量吸收能力。
應用領域
物理研究：鈮靶材常用于物理研究領域，如核物理實驗、粒子加速器、等離子體物理等，用于產生高能量的離子束或電子束。
半導體制造：在半導體制造工藝中，鈮靶材常用于物理氣相沉積（PVD）或磁控濺射（sputtering）等過程中，用于沉積或鍍覆薄膜，制備電子器件、光學器件或涂層材料。
制備方法
粉末冶金法：鈮粉末經過壓制、燒結等工藝制備成塊狀或片狀的鈮靶材。
熔煉法：鈮可以通過真空熔煉或等離子弧熔煉等方法制備成塊狀或片狀的鈮靶材。
特殊合金
有時，為了改善靶材的特性，鈮靶材可能會添加其他元素，如鉻（Cr）、鈦（Ti）等，以調節(jié)材料的性能和應用范圍。
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