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鉬鈮靶材

鉬鈮靶材是一種用于物理研究和半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的重要材料。 以下是鉬鈮靶材的基本介紹: 鉬(Mo):鉬是一種過渡金屬元素,具有優(yōu)異的高溫性能和化學(xué)穩(wěn)定性。 在鉬鈮靶材中,鉬通常是主要的組成元素之一。 鈮(Nb):鈮是一種過渡金屬元素,具有良好的耐腐蝕性和高溫強(qiáng)度。 在鉬鈮靶材中,鈮是另一個(gè)重要的組成元素。

產(chǎn)品分類:


  • 產(chǎn)品介紹

    鉬鈮靶材是一種用于物理研究和半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的重要材料。 以下是鉬鈮靶材的基本介紹:

    鉬(Mo):鉬是一種過渡金屬元素,具有優(yōu)異的高溫性能和化學(xué)穩(wěn)定性。 在鉬鈮靶材中,鉬通常是主要的組成元素之一。

    鈮(Nb):鈮是一種過渡金屬元素,具有良好的耐腐蝕性和高溫強(qiáng)度。 在鉬鈮靶材中,鈮是另一個(gè)重要的組成元素。

    物理性能

    高熔點(diǎn):鉬和鈮都具有較高的熔點(diǎn),分別約為2623°C和2477°C,因此鉬鈮靶材具有出色的耐高溫性能。

    高密度:鉬和鈮都具有較高的密度,分別約為10.2克/立方厘米和8.57克/立方厘米,因此鉬鈮靶材具有較高的質(zhì)量吸收能力。

    應(yīng)用領(lǐng)域

    物理研究:鉬鈮靶材常用于物理研究領(lǐng)域,如核物理實(shí)驗(yàn)、粒子加速器、等離子體物理等,用于產(chǎn)生高能量的離子束或電子束。

    半導(dǎo)體制造:在半導(dǎo)體制造工藝中,鉬鈮靶材常用于物理氣相沉積(PVD)或磁控濺射(sputtering)等過程中,用于沉積或鍍覆薄膜,制備電子器件、光學(xué)器件或涂層材料。

    制備方法

    粉末冶金法:鉬和鈮粉末按一定比例混合后,經(jīng)過壓制、燒結(jié)等工藝制備成塊狀或片狀的鉬鈮靶材。

    熔煉法:鉬和鈮可以通過真空熔煉或等離子弧熔煉等方法制備成塊狀或片狀的鉬鈮靶材。

    特殊合金

    有時(shí),為了改善靶材的特性,鉬鈮靶材可能會(huì)添加其他元素,如鉻(Cr)、鈦(Ti)等,以調(diào)節(jié)材料的性能和應(yīng)用范圍。


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