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鉬鉭靶材

我們生產(chǎn)的鎢靶密度高，組織均勻，濺射的鎢薄膜具有低電阻、高耐熱等特性，廣泛用于半導(dǎo)體電子部件中，幷且很好的滿足了行業(yè)需求。

產(chǎn)品分類(lèi)：

產(chǎn)品介紹

  • 高性能鎢基靶材

    產(chǎn)品特性：
       1.高密度與組織均勻性：我們生產(chǎn)的鎢合金靶材具備極高的密度和組織均勻性，確保濺射過(guò)程中獲得的薄膜質(zhì)量卓越。

       2. 低電阻與高耐熱性：濺射所得的鎢薄膜展現(xiàn)出低電阻和高耐熱等特性，適用于對(duì)材料性能要求嚴(yán)苛的應(yīng)用場(chǎng)景。

       3. 定制形狀與高純度：提供鎢、鎢鈦（WTi）、鎢硅等多種靶材，形狀可根據(jù)客戶(hù)需求定制，純度可達(dá)鎢（5N）、鎢鈦（4N5）、鎢硅（4N5）級(jí)別。

    應(yīng)用領(lǐng)域：

        1.半導(dǎo)體及電子技術(shù)：鎢薄膜在半導(dǎo)體工業(yè)中用作柵電極或布線材料，滿足集成度、可靠性、功能特性和處理速度等日益增長(zhǎng)的需求。鎢硅靶材則應(yīng)用于存儲(chǔ)器（如DRAM）中，作為有效的柵極歐姆接觸層。

        2.電光源：鎢合金靶材在電光源領(lǐng)域同樣具有廣泛應(yīng)用，為照明設(shè)備提供關(guān)鍵材料支持。

        3.汽車(chē)工業(yè)與航空航天：在高端制造領(lǐng)域，鎢基靶材因其優(yōu)異的性能而備受青睞，為汽車(chē)工業(yè)和航空航天領(lǐng)域的創(chuàng)新提供有力支撐。

    特定應(yīng)用亮點(diǎn)：

        1.鎢鈦（WTi）薄膜：作為Al和Si之間的有效擴(kuò)散阻擋層，主要通過(guò)物理氣相沉積（PVD）技術(shù)，利用磁控濺射WTi合金靶材獲得。高純度和高密度的WTi合金靶材，滿足復(fù)雜集成電路擴(kuò)散阻擋層可靠性的要求。

        2.鎢硅靶材：在半導(dǎo)體領(lǐng)域，特別是在存儲(chǔ)器制造中，鎢硅靶材通過(guò)PVD技術(shù)制備的鎢硅薄膜，充當(dāng)關(guān)鍵的柵極歐姆接觸層，對(duì)薄膜性能產(chǎn)生至關(guān)重要的影響。

    產(chǎn)品形態(tài)與純度：

        1.形態(tài)：提供多種形態(tài)的鎢、鎢鈦、鎢硅靶材，形狀可根據(jù)具體需求進(jìn)行定制。

        2.純度：確保鎢合金靶材的高純度，滿足不同行業(yè)和應(yīng)用對(duì)材料純凈度的嚴(yán)格要求。

關(guān)鍵詞：

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